PENGARUH PENINGKATAN KONSENTRASI Fe PADA LAPISAN TIPIS TiO2 TERHADAP KEMAMPUAN FOTOKATALIS DALAM JELANTAH

Ummi Kaltsum, Joko Saefan

Abstract


Penambahan dopan Fe pada lapisan tipis TiO2 telah diketahui berhasil meningkatkan aktivitas fotokatalis dalam jelantah. Tujuan dari penelitian ini untuk mengetahui pengaruh peningkatan konsentrasi dopan Fe pada lapisan tipis TiO2 terhadap fotoaktivitas lapisan tipis. Lapisan tipis dibuat dengan mencampurkan TTiP, AcAc, etanol dan dopan Fe dari Fe(NO3)3.9H2O. Konsentrasi Fe divariasi dalam 1%, 2% dan 3%. Campuran tersebut selanjutnya dideposisikan pada substrat dengan metode spray coathing pada suhu 450 oC dan dianil pada suhu 500 oC selama 2 jam. Lapisan tipis yang terbentuk diuji karakteristiknya berupa morfologi, optis dan struktur kristal dengan SEM, UV Vis spektofotometer, dan xr-difractometer. Fotoaktivitas lapisan tipis diuji dalam jelantah selama 5 jam dengan sinar UV dan hasilnya ditentukan dengan metode titrasi. Hasil penelitian menunjukkan peningkatan konsentrasi dopan Fe meningkatkan kemampuan fotokatalis lapisan tipis. Kemampuan fotokatalis yang paling optimum dihasilkan oleh lapisan tipis Fe-TiO2 3% dengan penurunan ALB dan PV sebesar 45% dan 29%.


Keywords


dopan, konsentrasi, Fe, aktivitas fotoaktivitas, TiO2.

Full Text:

PDF

References


Ahmed, S., Rasul, M. G., Martens, W. N., Brown, R., & Hashib, M. A., 2011. Advances in Heterogene-ous Photocatalytic Degradation of Phenols and Dyes in Wastewater: A Review. Water, Air, & Soil Pollution, 215 pp. 1-4.

Charp, O., Huisman, C.L., Reller, A., 2004. Photoinduced Reactivity of Titanium Dioxide. Progress in Solid State Chemistry, 32: 33-177.

Hanini, F., Bouabellou, A., Bouachiba, Y.,Kermiche, F., Taabouche, A., Hemissi, M.,Lakhdar, D., 2013. Structural, Optical and Electrical Properties of TiO2 Thin Films Synthesized by Sol-Gel Technique. IOSR Journal of Engineering, vol. 3 no. 6 pp. 21-28.

Kaltsum, U., Kurniawan, A.F., Nurhasanah, I., Priyono, P,. 2016. Reduction of Peroxide Value and Free Fatty Acid Value of Used frying Oil Using TiO2 Thin Film Photocatalyst. Bulletin of Chemical Reac-tion Engineering & Catalysis, vol. 11 no. 3 pp. 369-375.

Kaltsum, U., Kurniawan, A.F., Nurhasanah, I., Priyono, P., 2017. The Role of Concentration Ratio of TTiP:AcAc on the Photocatalytic Activity of TiO2 Thin Film in Reducing Degradation Products of Used Frying Oil. Bulletin of Chemical Reaction Engineering & Catalysis, vol. 12 no. 3 pp. 430-436.

Kaltsum, U., Kurniawan, A.F., Nurhasanah, I., Priyono, P. 2017. Pengujian Sifat Fotokatalis Lapisan Ti-pis TiO2 pada Produk Degradasi Jelantah Menggunakan Elektrooptis. Jurnal Penelitian Fisika dan Aplikasinya, vol. 7 no. 2 pp. 61-67.

Kaltsum, U., Saefan, J. 2017. Pengaruh Doping Fe pada Lapisan Tipis TiO2 terhadap Sifat Optis dan Fotoaktivitas dalam Jelantah. Prosiding Seminar Nasional Hasil Penelitian (SNHP)-VII, Semarang.

Lin, C.P., Chen, H., Nakaruk, A., Koshy, P., Sorrell, C.C., 2013. Effect of Annealing Temperature on the Photocatalytic Activity of TiO2 Thin Films. Energy Procedia, vol. 34 pp. 627636.

Luan, X., Wang, Y., 2014. Preparation and Photocatalytic Activity of Ag/Bamboo-Type TiO2 Nanotube Composite Electrodes for Methylene Blue Degradation. Materials Science in Semiconductor Processing, vol 25 pp. 43-51.

Murashkina A.A., Murzin, P.D., Rudakova,, A.V., , Ryabchuk, V.K., Emeline, A.V and Bahnemann, D.W., 2015. Influence of the Dopant Concentration on the Photocatalytic Ac-tivity: Al-Doped TiO2. J. Phys. Chem. C, vol. 119 np. 44 pp 24695–24703.

Welte, A., Waldauf, C., Brabec, C., Wellmann, P., 2008. Application of Optical for the Investigation of Electronic and Structural Properties of Sol-Gel Processed TiO Films. Thin Solid Films, vol. 516 no. 20 pp. 7256-7259.




DOI: http://dx.doi.org/10.26877/jitek.v4i2.2888

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Visitor Statistics View My Stats

Barcode ISSN Jurnal JITEK:

p-ISSN                               e-ISSN

         

JITEK telah terindeks pada:

                                

Creative Commons License

JITek: Jurnal Ilmiah Teknosains is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International Licensep-ISSN (Print) 2460-9986 | e-ISSN (Online) 2476-9436.

Based on a work at http://journal.upgris.ac.id/index.php/jitek.